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化学清洗线丨半导体装备零件制造
来源: 时间:2024-05-13

化学清洗线

一、主要特点:

集化学清洗、洁净清洗、干燥于一体
去除产品表面多余的金属元素
通过超声波结合有机试剂去除有机杂质粘污
采用机械擦洗及结合超声波冲洗去除微小颗粒物

可前后段式:后段置入无尘车间保障出货洁净度

二、适用领域:

硅/碳化硅件、石英件、陶瓷件、金属件、石墨件、塑料件、真空件、密封件、过滤部件、运动部件、电控部件等




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